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日本進口Nasgiken批量晶圓整體表面蝕刻設(shè)備 BEM-310 該設(shè)備使用臭氧和HF對硅晶片的整個表面進行體蝕刻。 氣體蝕刻不會在晶圓表面產(chǎn)生水滴。 蝕刻期間晶圓中的污染物不會轉(zhuǎn)移到其他位置。 這是在潔凈室中使用的獨立式設(shè)備。

日本nasgiken硅晶片氣體蝕刻設(shè)備潔凈室裝置 BEM-310 該設(shè)備使用臭氧和HF對硅晶片的整個表面進行體蝕刻。 氣體蝕刻不會在晶圓表面產(chǎn)生水滴。 蝕刻期間晶圓中的污染物不會轉(zhuǎn)移到其他位置。 這是在潔凈室中使用的獨立式設(shè)備。

nasgiken日本微量金屬物質(zhì)回收裝置SC系列 SC-3100/SC-8100/SC-9100 ●連接至PC以創(chuàng)建各種收集模式，并從硅晶片的表面和側(cè)面（斜角部分）收集（樣品）微量金屬污染物。 ●設(shè)備安裝方便，不需要太多外部資源，不占用太多空間。 ●由于工作是機械完成的，因此不需要操作員技能，任何人都可以輕松取樣。

日本進口nasgiken微量金屬污染物采樣裝置 SC-3100/SC-8100/SC-9100 ●連接至PC以創(chuàng)建各種收集模式，并從硅晶片的表面和側(cè)面（斜角部分）收集（樣品）微量金屬污染物。 ●設(shè)備安裝方便，不需要太多外部資源，不占用太多空間。 ●由于工作是機械完成的，因此不需要操作員技能，任何人都可以輕松取樣。

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日本nasgiken收集微量金屬污染物回收設(shè)備 SC-3100 ●連接至PC以創(chuàng)建各種收集模式，并從硅晶片的表面和側(cè)面（斜角部分）收集（樣品）微量金屬污染物。 ●設(shè)備安裝方便，不需要太多外部資源，不占用太多空間。 ●由于工作是機械完成的，因此不需要操作員技能，任何人都可以輕松取樣。 ●由于設(shè)備自動供給取樣化學(xué)品并移動支架，因此與SC-2000相比，可以減少工人造成的污染。

日本nasgiken簡易型微量金屬污染物回收裝置 SC-3100 ●連接至PC以創(chuàng)建各種收集模式，并從硅晶片的表面和側(cè)面（斜角部分）收集（樣品）微量金屬污染物。 ●設(shè)備安裝方便，不需要太多外部資源，不占用太多空間。 ●由于工作是機械完成的，因此不需要操作員技能，任何人都可以輕松取樣。 ●由于設(shè)備自動供給取樣化學(xué)品并移動支架，因此與SC-2000相比，可以減少工人造成的污染。

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