日本kelk超純水加熱裝置用于清洗硅晶片等 PWH-144i 特點(diǎn)介紹

熱水供應(yīng)裝置非常適合使用超純水對(duì)硅晶片和液晶玻璃基板進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)清洗。

本裝置是對(duì)半導(dǎo)體制造線上的硅芯片的清洗、液晶制造線上的玻璃基板的清洗等使用的超純水進(jìn)行加熱的裝置。

加熱部由高品質(zhì)石英玻璃雙層覆蓋的鹵素?zé)艚M成，無(wú)雜質(zhì)污染，高效的超純水加熱安裝。

而且，特別是緊湊型由于設(shè)計(jì)精巧，使用點(diǎn)的安裝空間最小化。

日本kelk超純水加熱裝置用于清洗硅晶片等 PWH-144i 規(guī)格參數(shù)

1.清潔加熱部的容器為石英玻璃，配管部為氟樹(shù)脂。2.緊湊型，不占用安裝面積。3.高性能溫控高輸出鹵素?zé)魩?lái)的優(yōu)異的升溫上升特性和流量變化的溫控。4.高效率加熱效率95%以上。5.安全過(guò)溫空中燃燒通過(guò)針對(duì)漏水等的安全功能及警報(bào)功能，對(duì)應(yīng)安全性。1.硅芯片清洗2.液晶用玻璃基板的清洗3.代替其他氟氯化碳系清洗的溫純水清洗

熱水供應(yīng)裝置非常適合使用超純水對(duì)硅晶片和液晶玻璃基板進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)清洗。

本裝置是對(duì)半導(dǎo)體制造線上的硅芯片的清洗、液晶制造線上的玻璃基板的清洗等使用的超純水進(jìn)行加熱的裝置。

加熱部由高品質(zhì)石英玻璃雙層覆蓋的鹵素?zé)艚M成，無(wú)雜質(zhì)污染，高效的超純水加熱安裝。

而且，特別是緊湊型由于設(shè)計(jì)精巧，使用點(diǎn)的安裝空間最小化。